• 溅射设备:CS-200z CS-200z
    在真空条件下,氩气在DC或RF作用下产生氩离子,高能的氩离子撞击靶材 产生溅射。溅射出的原子或分子离开靶材,沉积在基板表面,形成薄膜。成膜种…
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  • 溅射设备:SME-200 SME-200
    全自动多工艺对应用最大搭载7个工艺腔的溅射设备,可实现多种类材料溅射,诸如高温成膜(PZT等)、高精度侧壁成膜、光学膜、化合物膜、合金膜等…
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  • 溅射设备:ULDIS系列 ULDIS系列
    1.对于光学薄膜的溅射装置乌尔迪斯布系列,间模式®在数字溅射装置进化技术,实现了光学薄膜的一个更高的质量。 2.与美国JDS Uniphase达成新的许可协…
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  • 溅射设备:SIV-500 SIV-500
    用于particle抑制的通过型竖直溅射,可实现基板往复或line式搬送,多用于SiO、SiN等光学薄膜溅射,亦可用于金属溅射。
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  • 刻蚀设备:INE-3085 INE-3085
    面向LED、Powerdevice、MEMS等诸多领域开发,搭载静电吸附系统,采用更大的静电托盘,较常规设备拥有更高的刻蚀速率和更大的产能。同时搭载ULVAC专利的…
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  • 刻蚀设备:NE-550EXz NE-550EXz
    在高真空条件下,通过RF高频放电,产生等离子体,在偏压的作用下,通过物理和化学的作用,对特定的材料去除。蚀刻材料:金属,GaN,In P,SiO2,Si …
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  • 刻蚀设备:NE-950EX NE-950EX
    在高真空条件下,通过RF高频放电,产生等离子体,在偏压的作用下,通过物理和化学的作用,对特定的材料去除。蚀刻材料:金属,GaN,In P,SiO2,Si …
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  • 刻蚀设备:NE-5700 NE-5700
    量产用刻蚀设备NE-5700是可以对应单腔及多腔、重视性价比拥有扩展性的刻蚀设备,注重性价比。
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  • 刻蚀设备:NLD-570 NLD-570
    研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570,是搭载了爱发科独创的磁性中性线(NLD- neutral loop discharge)等离子源的装置,此NLD技术可实现产生低压、低电子温度…
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  • 刻蚀设备:NLD-5700 NLD-5700
    对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线(NLD- neutral loop discharge)等离子源的量产用干法刻蚀装置。(此爱发科独创的NLD技术…
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  • PECVD:CC-200Cz CC-200Cz
    在真空条件下,通过射频放电,让气体活化发生化学反应,在基板表面沉积形成薄膜。成膜种类:SiO2,SiNx ,SiON。等离子增强型,膜质好,均匀性高,L…
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  • PECVD:CX-500z CX-500z
    在真空条件下,通过射频放电,让气体活化发生化学反应,在基板表面沉积形成薄膜。成膜种类:SiO2,SiNx ,SiON。等离子增强型,膜质好,均匀性高,L…
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  • 蒸发设备:蒸发Ei系列 ei-5z 蒸发Ei系列 ei-5z
    1.Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制,实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动…
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  • 蒸发设备:蒸发Ei系列 ei-7z 蒸发Ei系列 ei-7z
    1.Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制,实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动…
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  • 蒸发设备:蒸发Ei系列 ei-501z 蒸发Ei系列 ei-501z
    1.Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制,实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动…
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  • 蒸发设备:蒸发Esz系列 Esz-R-1/2 蒸发Esz系列 Esz-R-1/2
    Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制,实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动化…
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