刻蚀设备_爱发科真空技术（苏州）有限公司

刻蚀设备：INE-3085

面向LED、Powerdevice、MEMS等诸多领域开发，搭载静电吸附系统，采用更大的静电托盘，较常规设备拥有更高的刻蚀速率和更大的产能。同时搭载ULVAC专利的…

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刻蚀设备：NE-550EXz

在高真空条件下，通过RF高频放电，产生等离子体，在偏压的作用下，通过物理和化学的作用，对特定的材料去除。蚀刻材料：金属，GaN，In P，SiO2，Si …

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刻蚀设备：NE-950EX

在高真空条件下，通过RF高频放电，产生等离子体，在偏压的作用下，通过物理和化学的作用，对特定的材料去除。蚀刻材料：金属，GaN，In P，SiO2，Si …

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刻蚀设备：NE-5700

量产用刻蚀设备NE-5700是可以对应单腔及多腔、重视性价比拥有扩展性的刻蚀设备，注重性价比。

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刻蚀设备：NLD-570

研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570，是搭载了爱发科独创的磁性中性线（NLD- neutral loop discharge）等离子源的装置，此NLD技术可实现产生低压、低电子温度…

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刻蚀设备：NLD-5700

对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线（NLD- neutral loop discharge）等离子源的量产用干法刻蚀装置。（此爱发科独创的NLD技术…

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