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PECVD：CC-200Cz
在真空条件下，通过射频放电，让气体活化发生化学反应，在基板表面沉积形成薄膜。成膜种类：SiO2，SiNx ，SiON。等离子增强型，膜质好，均匀性高，L…
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PECVD：CX-500z
在真空条件下，通过射频放电，让气体活化发生化学反应，在基板表面沉积形成薄膜。成膜种类：SiO2，SiNx ，SiON。等离子增强型，膜质好，均匀性高，L…
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