产品中心_爱发科真空技术（苏州）有限公司

溅射设备：CS-200z

在真空条件下，氩气在DC或RF作用下产生氩离子，高能的氩离子撞击靶材产生溅射。溅射出的原子或分子离开靶材，沉积在基板表面，形成薄膜。成膜种…

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溅射设备：SME-200

全自动多工艺对应用最大搭载7个工艺腔的溅射设备，可实现多种类材料溅射，诸如高温成膜（PZT等）、高精度侧壁成膜、光学膜、化合物膜、合金膜等…

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溅射设备：ULDIS系列

1.对于光学薄膜的溅射装置乌尔迪斯布系列，间模式®在数字溅射装置进化技术，实现了光学薄膜的一个更高的质量。 2.与美国JDS Uniphase达成新的许可协…

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溅射设备：SIV-500

用于particle抑制的通过型竖直溅射，可实现基板往复或line式搬送，多用于SiO、SiN等光学薄膜溅射，亦可用于金属溅射。

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刻蚀设备：INE-3085

面向LED、Powerdevice、MEMS等诸多领域开发，搭载静电吸附系统，采用更大的静电托盘，较常规设备拥有更高的刻蚀速率和更大的产能。同时搭载ULVAC专利的…

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刻蚀设备：NE-550EXz

在高真空条件下，通过RF高频放电，产生等离子体，在偏压的作用下，通过物理和化学的作用，对特定的材料去除。蚀刻材料：金属，GaN，In P，SiO2，Si …

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刻蚀设备：NE-950EX

在高真空条件下，通过RF高频放电，产生等离子体，在偏压的作用下，通过物理和化学的作用，对特定的材料去除。蚀刻材料：金属，GaN，In P，SiO2，Si …

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刻蚀设备：NE-5700

量产用刻蚀设备NE-5700是可以对应单腔及多腔、重视性价比拥有扩展性的刻蚀设备，注重性价比。

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刻蚀设备：NLD-570

研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570，是搭载了爱发科独创的磁性中性线（NLD- neutral loop discharge）等离子源的装置，此NLD技术可实现产生低压、低电子温度…

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刻蚀设备：NLD-5700

对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线（NLD- neutral loop discharge）等离子源的量产用干法刻蚀装置。（此爱发科独创的NLD技术…

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PECVD：CC-200Cz

在真空条件下，通过射频放电，让气体活化发生化学反应，在基板表面沉积形成薄膜。成膜种类：SiO2，SiNx ，SiON。等离子增强型，膜质好，均匀性高，L…

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PECVD：CX-500z

在真空条件下，通过射频放电，让气体活化发生化学反应，在基板表面沉积形成薄膜。成膜种类：SiO2，SiNx ，SiON。等离子增强型，膜质好，均匀性高，L…

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蒸发设备：蒸发Ei系列 ei-5z

1.Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制，实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动…

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蒸发设备：蒸发Ei系列 ei-7z

1.Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制，实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动…

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蒸发设备：蒸发Ei系列 ei-501z

1.Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制，实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动…

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蒸发设备：蒸发Esz系列 Esz-R-1/2

Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制，实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动化…

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