刻蚀设备：NE-5700

量产用刻蚀设备NE-5700是可以对应单腔及多腔、重视性价比拥有扩展性的刻蚀设备，注重性价比。

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0512-86669111-8150 李女士
13913550251（沈先生）

产品特性 / Product characteristics

• 除单腔之外，另可搭载有磁场ICP（ISM）或NLD等离子源、去胶腔体、CCP腔体等对应多种刻蚀工艺

• 为实现制程再现性及安定性搭载了星型电极及各种调温技能

• 拥有简便的维护构造，实现downtime最短化，提供清洗、维护及人员训练服务等综合性的售后服务体制

• 专门的半导体技术研究所会提供万全的工艺支持体制

产品应用 / Product application

• 化合物（LED或LD、高频器件）或Power device（IGBT配線加工、SiC加工）

• 金属配线或层间绝缘膜（树脂类）、门电极加工工艺

• 强电介质材料或贵金属刻蚀

• 磁性体材料加工